钨具有难熔性和高强度， 使其成为可在高温和辐射下使用的材料和制品的最佳基材。

 钨是在VI A族中最大原子键强度的元素，难熔金属中熔点最高， 密度达到19.3g/cm3，高拉伸强度，导电好，硬度（HV30>460），抗蠕变和应力断裂（例如，熔点比钼、钽或铌高，1100°c）与钼相比，纯钨具有较高的再结晶温度，大约在1350°c，蒸发率少4-5倍，热膨胀系数低 (4,2*10¯6 , 20 °С)和低电阻(0,05*10¯6Ом*м)

 自1965年以来， POLEMA一直致力于开发高纯度钨粉和轧材以及钨基复合材料

POLEMA多年来应用尖端的粉末冶炼技术，确保了钨产品基本上没有金属杂质（碳、氮、氧、氢）并具有在电子工业中应用所必须的小粒度结构，并作为极高温度下工作的电子和其他设备的耐热材料。

POLEMA JSC 生产多种类型的钨制品，拥有优异的性能且能满足严格的要求。

我们的钨制品是由本公司自产钨粉末制造而成  。

WO3含量 99.99%的氧化钨为原料，保证了粉末产品和粉末制品的高纯度。

钨系列产品包括以下产品

• 钨粉
• 钨片、钨板、钨靶材
• 钨坩埚
• 钨基复合材料 钨铜，钨镍铜

制造用99.95钨粉所含的标准化学成分

Element	Ppm	Element	Ppm	Element	Ppm
Li	< 0,01	Cr	≤ 2	Ru	< 0,01
Be	< 0,01	Mn	≤ 0,1	Cd	< 0,1
B	< 0,1	Fe	≤ 15	In	< 0,01
C	≤ 30	Co	< 0,2	Sn	< 0,2
N	≤ 11	Ni	≤ 12	Sb	≤ 1,6
O	≤ 170	Cu	≤ 1	Cs	< 0,1
Na	≤ 6	Zn	< 0,1	Ba	< 0,1
Mg	≤ 0,3	Ge	< 0,01	Ta	≤ 4
Al	≤ 7	As	≤ 7	W	matrix
Si	< 5	Se	< 0,1	Pt	< 0,1
P	< 10	Rb	< 0,1	Tl	< 0,1
K	≤ 10	Sr	< 0,1	Pb	≤ 0,3
Ca	≤ 6	Y	< 0,01	Bi	< 0,1
Sc	≤ 0,1	Nb	≤ 1	U	≤ 2,2
Ti	≤ 0,6	Mo	≤ 38	S	≤ 30
V	≤ 0,3	Rh	< 0,01
Ga, Zr, Pd, Ag, Te, La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Hf, Re, Ir, Au, Th in each					<0,05

高温真空和氢气炉（隔热屏、加热器、托盘、架子和其他紧固件）的各种设备都是由纯钨制成的，用纯钨制造蓝宝石长晶工艺中熔化刚石的坩埚，用于真空薄膜镀的物质热蒸发坩埚、等离子管电极、内燃机点火系统和电化学过程中酸性溶液浓度的测量装置。

在集成电路半导体元件的金属化过程中，采用高等级规格的钨靶材对薄膜进行沉积。

在极高的温度和强烈的气体侵蚀下运行的耐热部件是由钨及钨合金制成的。

钨的低蒸气压允许它在高温使用（高达2300°c）作为热离子变流器中的电子发射器。

在核电工业中，钨被用来作为屏蔽工具来削弱辐射，确保高辐射和热循环负荷下接触等离子体的结构件的工作性能（在核反应堆中的滤器）

多孔烧结钨是一种用于等离子发动机的离子发生器的前瞻性材料。