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钼靶

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应用:

由高纯度钼制备的溅射靶材, 用于薄膜的物理真空沉积技术 (PVD 法) 和太阳能电池,集成电路, 形成大规格 LCD 的 TFT 显屏及其它技术领域中的功能涂层。

明确的钼靶材制品的化学成分

Grade Mo, %* Impurities, ppm, maximum
Fe Al Ni Si C O N ∑Me**
Mo99.95-PM >99,95 100 50 50 100 100 70 50 <500

* 基本元素的标准含量Mo 99.97%

  ** 金属杂质总和。

  产品形状

根据产品设计制作成片材,圆片和环形。

片材尺寸

  • 厚度从5到32毫米;
  • 宽度可达550毫米;
  • 长度可达1500毫米。

靶材可以以任何宽度和长度,端面相连的成套部件的形式交付。

尺寸和粗糙度的公差根据客户的要求完成。