电解铬粉和铬片

JSC POLEMA生产各种化学成分和粒度大小的电解铬粉和铬片。

粉和片是通过对符合纯度的精炼电解铬材料进行机械研磨，与后续筛选, 以达到所需的粒度。

精制电解铬制成的铬粉被用来制件。

精炼电解铬制成的铬片被用作真空镀铬涂层的蒸发源。

由高纯度精致电解铬制成粉末，纯度是99.99 % 或是 99.98 % 

等级	Cr, % (mass)*	Impurities, ppm, maximum
		Total content of metallic impurities	C	N	O		S
					for fraction 56-280 microns (-50 mesh)	for fraction 56-160 microns (-100 mesh)
MP-ERCr 99,99	99,99 min	100	50	40	120	130	20
MP-ERCr 99,98	99,98 min	200	70	50	140	150	20
*金属纯度。用 ICP-MS 法测定了铬的质量百分比为100% 与金属杂质总含量的差异

MP-研磨粉末

 粒度: 56-280 微米 (-50 目), 56-160 微米 (-100 目), 基本分数含量至少为93.5%。其他颗粒尺寸可以根据客户的要求定制

精制电解铬粉末，纯度为 99.95 % 

Grade, fraction	Cr, % (mass) *	Impurities, ppm, maximum
		Al	Fe	Cu	Ni	Si	C	N	O	S	Other
MP-ERCr-1 -280 microns (-50 mesh)	99,95 min	15	150	30	50	100	80	30	120	20	-
MP-ERCr-1 -150 microns (-100 mesh)	99,95 min	15	200	30	50	100	80	30	200	20	-
MP-ERCr-4 -150 microns (-100 mesh)	99,95 min	50	200	30	50	150	100	50	From 10000 to 30000**	80	P 20 Pb 10
*金属纯度 **在MP-ERCr-4（氧化）粉末中，氧气未被分类到杂质中，其含量按上述数量基于个别合同

MP – 研磨粉末

含有99.9％Cr和99.6％Cr基本元素的低纯度精制电解铬粉末

Grade	Cr, % (mass.)*	Impurities, ppm, maximum**
		Al	Fe	Cu	Ni	Si	Total content of metallic impurities	C	N	O	S
MP-ERCr 99,9	99,9 min	70	500	40	100	100	1000	200	100	350	30
MP-ERCr 99,6	99,6 min	70	1500	50	100	350	4000	200	100	1500	30
*Metallic purity **Impurities norms are shown for powders MP-ERCr 99.9 of the fraction 56-280 microns and MP-ERCr 99.6 of the fraction 0-63 microns (-250 mesh). For powders of other fractions, impurities norms are determined in the specifications

MP –研磨粉末

粒度：56-280微米，MP-ERCr 99.9等级，基础颗粒含量至少为85％; 对于MP-ERCr 99.6级，基础颗粒含量至少为95％的0-63微米（-250目）; 其他尺寸可根据客户要求提供。

精炼电解铬的砂砾纯度为99.95%铬和99.9%的可蒸发源

Grade	Cr, % (mass.)*	最大杂质Impurities, ppm, maximum
		Al	Fe	Cu	Ni	Si	Other impurities, total**	C	N	O	S
ERCr 99,95-PM	99,95 min	30	250	30	40	50	100	100	50	200	20
ERCr 99,9-PM	99,9 min	70	500	40	100	100	190	200	100	350	30
*Metallic purity **K+Li+Mg+Mn+Mo+Na+V+W

粒度：从2.5到5.0毫米，基本成分含量至少为88%，以及基于客户要求的其他尺寸。